外观
Chapter 1 半导体元件
约 5643 字大约 19 分钟
2025-09-23
考试成绩的计算方法:期末考试占比 85%,作业成绩占比 15%. 教材用的是康华光《电子技术基础(模拟部分)》第七版,之后的作业习题也会从这上面留.结课时间是11周,暂定期末考试在13周进行.
回到课程本身.
Part 1 二极管
警告
注意!电路分析的很多基本方法仅适用于线性元件,对于非线性元件,如 BTJ 和 PN结,我们一般会使用等效模型化为线性模型然后用电路分析的方法解析。
· 符号
这更像是一种约定俗成——不过鉴于模电的符号过多,这种约定实际上是非常有必要的
| 符号 | 特点 | 表示的物理量 |
|---|---|---|
| VB | 变量大写,下标大写 | 直流分量(均值) |
| vb | 变量小写,下标小写 | 交流分量瞬时值 |
| vB | 变量小写,下标大写 | 总瞬时值 |
| Vb | 变量大写,下标小写 | 交流有效值 |
| $ \dot{V} $ | 变量大写加点 | 相量 |
· 半导体基本知识
(1). 本征半导体——化学成分纯净的半导体。它在物理结构上呈单晶体形态
(2). 空穴——共价键中的空位。
(3). 电子空穴对——由热激发而产生的自由电子和空穴对。
(4). 空穴的移动——空穴的运动是靠相邻共价键中的价电子依次填充空穴来实现的。
(5). N型半导体——掺入五价杂质元素(如磷)的半导体。N型半导体中自由电子是多数载流子,它主要由杂质原子提供;空穴是少数载流子,由热激发形成。
(6). P型半导体——掺入三价杂质元素(如硼)的半导体。
在P型半导体中空穴是多数载流子,它主要由掺杂形成;自由电子是少数载流子, 由热激发形成。
(7). 漂移运动——由电场作用引起的载流子的运动称为漂移运动。
(8). 扩散运动——由载流子浓度差引起的载流子的运动称为扩散运动。
载流子(carrier):自由电子(electron)和空穴(hole):
绝对温度 0K 时,无自由电子,绝缘。
本征激发:温度升高,部分价电子挣脱共价键束缚成为自由电子,同时共价键上留下一个空穴。常温下自由电子很少,本征半导体的导电能力很弱。
本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自由电子和空穴 ——电子空穴对。
空穴吸引附近电子来填补,相当于空穴迁移。空穴迁移相当于正电荷移动,因此可认为空穴是载流子.
半导体中电流由两部分组成:(1) 自由电子移动产生的电流;(2) 空穴移动产生的电流.
而温度越高,载流子浓度越高,本征半导体的导电能力越强。
ni=pi=AT1.5e−2kTEg
A 为材料相关常数,k 为玻尔兹曼常数.

PN 结形成过程:
重要
N型半导体中自由电子是多数载流子,而在P型半导体中空穴是多数载流子。当我们将N型半导体和P型半导体结合在一起时,电子和空穴均需从浓度高的区域向浓度低的区域扩散,即N型半导体中的自由电子往P型半导体中跑,P型半导体中的空穴往N型半导体中跑,从而使得原交界面处形成了一个空间电荷区(PN结).
其中靠近N型半导体的N区带正点电,靠近P型半导体的P区带负电,可见形成了内电场,用于阻止载流子扩散。而内电场促使少子漂移,阻止多子扩散,最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡,形成平衡PN结。在空间电荷区,由于缺少多子,所以也称耗尽层。
当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位,称为加正向电压,利于多子的扩散作用;当外加电压使PN结中P区的电位低于N区的电位,利于少子的偏移作用.
在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为反向饱和电流
PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。
由此可以得出结论:PN结具有单向导电性.
当PN结的反向电压增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为PN结的反向击穿.
电击穿(雪崩击穿,齐纳击穿)可逆但热击穿不可逆.
· 二极管
PN 结加上引线和管壳,就制成半导体二极管,伏安曲线公式如下:
iD=IS(euD/VT−1),VT=QkT
反向饱和电流 IS 与材料、工艺有关,随温度升高而显著上升.

二极管的工作特点:
导通 —— 导通前存在正向开启电压,导通后存在导通电压;
截止 —— 截止状态存在反向的饱和电流,数值非常小;
理想二极管:导通电压和开启电压均为零,即阳极电位>阴极电位二极管导通,
导通后相当于短路,压降为0;阳极电位<阴极电位二极管截止,电流为0;
一般的计算分析时认为开启电压等于导通电压,Si管为0.7V,Ge管为0.2V;
理想二极管:无开启电压,导通时电压为零(短路),截止时电流为零(开路)
典型二极管:存在开启电压(导通电压),导通时相当于一个电压源,截止时电流为零(开路)
二极管的主要参数:
最大整流电流 IF:二极管导通时允许通过的最大正向平均电流(电流应力)
最高反向工作电压 UR:二极管截止时允许外加的最大反向电压(电压应力)
反向电流 IR:二极管未击穿时的反向电流(表现单向导电性)
最高工作频率 fM:二极管工作的上限截止频率(考虑结电容效应)
思考:为什么电流应力是平均值,而电压应力是瞬时值?
限制二极管电流的关键是平均功耗,而平均功耗直接由平均电流决定。所以,最大整流电流 IF 是一个平均值,它保证了在长期工作下,二极管不会因过热而损坏
思考:反向电流 IR 的绝对值越大越好还是越小越好?
限制二极管反向电压的关键是任何时刻都不能超过某个阈值。最高反向工作电压 UR 是一个瞬时值,它确保在电压波形的每一个点上,二极管都不会发生反向击穿
关于二极管,我们还可以强调其电容效应:
极间电容由两部分组成:势垒电容 CB 和扩散电容 CD.
势垒电容:当电压变化时,会引起积累在势垒区的空间电荷的变化,这样所表现出的电容是势垒电容 CB.
扩散电容:为了形成正向电流(扩散电流),注入 P 区的电子在 P 区有浓度差,越靠近PN结浓度越大,在P 区有电子积累,在N区有空穴的积累。正向电流大,积累的电荷多。这样所产生的电容就是扩散电容 CD.
CB 在正向和反向偏置时均不能忽略,而反偏置时,载流子数目少,CD 可忽略.
· 简化模型
(1). 理想模型:电源电压远比二极管的管压降大

(2). 恒压降模型:二极管的电流 iD 大且 uD 不可忽略

(3). 折线近似:二极管的电流 iD 小且 uD 不可忽略

(4). 微变等效:

将交点附近小范围内的 U−I 特性线性化,得到小信号模型,即以交点为切点的一条直线.
当仅考虑电压(或电流)小幅波动时所建立的模型称为小信号模型。
当 vs=Vmsinωt 时(Vm≪VDD),电路的负载线为
iD=−R1vD+R1(VDD+vs)
微变电阻 rd 可由式 rd=ΔvD/ΔiD 求得,可得微变电导
gd=dvDdiD=dvDd[IS(evD/VT−1)]=VTISevD/VT
在交点处 vD≫VT=26 mV,所以 iD≈ISevD/VT,则
gd=VTISevD/VTQ≈VTiDQ=VTID
式中 ID 是交点处的电流。由此可得
rd=gd1=IDVT=ID26 mV,T=300 K
例如,当交点上的 ID=2 mA 时,rd=26 mV/2 mA=13 Ω。
要特别注意,小信号模型中的微变电阻 rd 与静态工作点 Q 有关,Q 点位置不同,rd 的值也不同。该模型主要用于二极管处于正向偏置,且 vD≫VT 条件下。
· 稳压二极管
稳压管是一种特殊的二极管,只不过我们应用的是其反向击穿时的恒压特性,关注点在其反向击穿区;而普通的二极管我们利用的是其正向导通和反向截止,设计应用时往往规避其反向击穿;为了区分我们把稳压二极管称为稳压管,不代表是不同元件。

稳压管的主要参数:
稳定电压 UZ:即稳压管工作在稳压区的反向击穿电压。
稳定电流 IZ:即稳压管工作在稳压区的最小允许电流,也可记作 IZmin。电流大小低于此值无法稳压。
额定功耗 PZM:稳压管工作在稳压区的最大允许功率。功率大于此值时稳压管会烧坏;这一参数同时对应着稳压管稳压区的最大允许电流 IZM(即 IZmax):
IZM=IZmax=UZPZM
电压温度系数:稳压值受温度影响的系数.
α=ΔTΔUZ
工作状态:
正向导通:u>0
反向截止:u<0 且 ∣u∣<UZ,即假设 ∣u∣=UZ 而 ∣i∣<IZmin
反向击穿——稳压区:
∣u∣=UZ,IZmin<∣i∣<IZmax
反向击穿——烧毁:假设 ∣u∣=UZ 而 ∣i∣>IZmax
· 二极管电路
(1). 整流电路:利用二极管单向导电性将交流电转化为直流电
单相半波整流电路:
单相桥式整流电路:
(2). 限幅电路:限制电压输入范围保护晶体管不被击穿

Part 2 晶体管
· 原理
晶体管的结构原理:
三个掺杂区—— 基区,发射区,集电区; 三个电极—— 基极(b),发射极(e),集电极(c); 两个PN结—— 发射结,集电结;

三极管的放大作用是在一定的外部条件控制下,通过载流子传输体现出来的。
外部条件:发射结正偏,集电结反偏.

BTJ 的内部原理如下:

发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流 IEN .
进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流 IBN
集电结反偏,电场强,从发射结扩散来的多数电子在集电结反偏电压作用下漂移,被扫入集电结而被收集,形成 ICN
放大:VBE 的微小增量,引起 IB 的较小增量,以及 ICN 一定比例的大幅增量!
基区空穴向发射区扩散,形成电流 IEP
集电结反偏,由少子形成的反向漂移电流 ICBO,受温度影响大
放大原理:流过单边突变结的电流主要由高掺一边向低掺一边注入的电流组成,电流大小与轻掺一边掺杂浓度成反比
内部载流子流向过程如下 (以NPN为例) :
发射区:发射载流子;集电区:收集载流子;基区:传送和控制载流子
我们能知道以下关系:
IE=IB+IC,IC=INC+ICBO
(后面方程参考二极管结构性质)
设 α = 传输到集电极的电流 / 发射极注入电流,即
α=IEInC
通常
IC>>ICBO
则有
α≈IEIC
α 为电流(共基)放大系数。它只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。一般 α =0.9~0.99.
又设
β=1−αα
根据
IE=IB+IC,IC=InC+ICBO,α=IEInC
且令
ICEO=(1+β)ICBO
( ICEO 为穿透电流)则
β=IBIC−ICEO当 IC>>ICEO 时,β≈IBIC
β 是另一个电流放大系数。同样,它也只与管子的结构尺寸和掺杂浓度有关,与外加电压无关。一般 β>>1 .
在此给出三极管的接法:

综上所述,三极管的放大作用,主要是依靠它的发射极电流能够通过基区传输,然后到达集电极而实现的。实现这一传输过程的两个条件是:
(1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄。
(2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。
总结晶体管的基本电流关系 (放大状态):
三个电流满足KCL关系(注意电流的方向)
电流的控制与放大作用——基极电流控制集电极电流
三个电流的比例分配关系:
iE=iB+iCiC=βiBiB:iC:iE=1:β:(1+β)
β 称为(共射)电流放大系数
重要
关于电流放大系数 β
没有特殊表明是共基电流放大系数 α 的前提下,默认晶体管的放大系数指代的都是 β;
放大系数定义式中的电流是“通指”——既可以代表直流电流,也可以代表交流电流:
iC=βiB{IC=βˉIBic=βib(Δic=βΔib)
认为直流放大系数等于交流放大系数,统一以 β 表示;
(实际当集电极电流过大时交流放大系数会明显减小,与直流放大系数的偏差加剧)
一般情况实际的晶体管均满足 β≫1;
· 伏安特性
晶体管的工作特性通常用两个伏安特性来描述——输入伏安特性与输出伏安特性;
输入伏安特性——基极电流 iB 和 发射结电压 uBE 的关系;
输出伏安特性——集电极电流 iC 和 管压降 uCE 的关系;

晶体管的输入伏安特性 iB - uBE (以NPN型晶体管为例)
发射结电压上升,基极电流上升。输入伏安特性曲线与管压降有关;
(一般的晶体管工作在放大状态满足管压降≥1V,通常可以用一簇重合线代表)
iB=f(vBE)vCE=const
当 vCE=0V 时,相当于发射结的正向伏安特性曲线。
当 vCE≥1V 时,vCB=vCE−vBE>0,集电结已进入反偏状态,收集载流子能力增强,基区复合减少,同样的 vBE 下 IB 减小,特性曲线右移。
晶体管的输出伏安特性 iC - uCE (以NPN型晶体管为例)
三个工作区(从定性的角度,字面意义上理解)
iC=f(vCE)IB=const
①截止区:基极电流为零,对外表现为几乎没有任何电流流进流出;iC 接近零的区域,相当于 iB=0 的曲线的下方。此时,vBE 小于死区电压.
②放大区:集电极电流仅受基极电流控制,两者呈现比例放大关系;iC 平行于 vCE 轴的区域,曲线基本平行等距。此时,发射结正偏,集电结反偏.
③饱和区:集电极电流不再仅受基极电流控制,同时取决于管压降;iC 明显受 vCE 控制的区域,该区域内,一般 vCE<0.7V(硅管)。此时,发射结正偏,集电结正偏或反偏电压很小.
警告
这部分结论只适用于填空题和选择题,在解决计算分析题时结论并不严谨
不同工作区的电位特点:
发射结反偏,集电结反偏 —— 截止区
发射结正偏,集电结反偏 —— 放大区
发射结正偏,集电结正偏 —— 饱和区
放大区的点位特点:
NPN管
uC≥uB>uE,uBE=0.7V/0.2V
PNP管
uC≤uB<uE,uEB=0.7V/0.2V
以 NPN型晶体管 为例:
截止区:
条件:
uBE<Uon
放大区:
条件:
uBE≥Uon,uCE>uBE,⇒uBC<0
电压:
uBE=∣UBEQ∣
电流:
iB:iC:iE=1:β:1+β
临界饱和:
条件:—
电压:
uCE=∣UCES∣oruCE=uBE=∣UBEQ∣
电流:
iB=IBSiB:iC:iE=1:β:1+β
饱和区:
条件:
uBE≥Uon,uCE<uBE⇒uBC>0
电压:
uBE=∣UBEQ∣,uCE=∣UCES∣
电流:
iB>IBS,iC≈iE(iC<βiB)
参数说明:
- Uon:为开启电压,UBEQ 即 UD 为导通电压,一般认为两者相等(对于 Si 管约为 0.7 V)
- ∣UCES∣:为饱和管压降(一般为 0.3~0.5 V,题目给定)
- IBS:指临界饱和电流
· 工作状态判断
根据电流判断:
对于 NPN 管:
Step 1:首先判断晶体管能否导通,比较 uBE 与发射结开启电压(即导通电压)∣UBEQ∣;
若 uBE<∣UBEQ∣,则晶体管工作在截止区;
若 uBE≥∣UBEQ∣,则晶体管工作在放大区或饱和区.
Step 2:求解临界饱和电流 IBS:
令 uCE=∣UCES∣(若题目未给出 ∣UCES∣,可令 uC=uB,即 uCE=uBE=∣UBEQ∣)
求解此时的集电极电流 ICS,则
IBS=βICS
- 若 iB>IBS,则工作在饱和区;
- 若 iB≤IBS,则工作在放大区。
对于 PNP 管同理,注意一下符号即可。
根据电位判断:
对于 NPN 管:
Step 1:首先判断晶体管能否导通,比较 uBE 与发射结开启电压(即导通电压)∣UBEQ∣;
- 若 uBE<∣UBEQ∣,则晶体管工作在截止区;
- 若 uBE≥∣UBEQ∣,则晶体管工作在放大区或饱和区。
Step 2:假设晶体管工作在放大区,根据电流关系 iB:iC:iE=1:β:1+β,求解出 uCE;
若 uCE≥∣UCES∣,说明假设正确,晶体管工作在放大区;
若 uCE<∣UCES∣ ,说明假设不正确,晶体管工作在饱和区,并且此时必须通过令 uCE=∣UCES∣ 重新计算各极电流的大小,
晶体管电流不再满足放大区的线性比例关系。(若题目未给出 ∣UCES∣,可比较 uCE 和 uBE,即 uCE 和 ∣UBEQ∣)
对于 PNP 管同理,注意一下符号即可。
· 主要参数
放大系数 β :晶体管的共射直流电流放大系数/交流电流放大系数(近似相等);
特征频率 fT :考虑晶体管PN结电容效应,高频放大倍数会下降,下降到1时对应的信号频率为特征频率;
最大集电极耗散功率 PCM :晶体管输出端管压降与集电极电流乘积的最大值,若功率大于此值晶体管会被烧坏;(平均值)
最大集电极电流 ICM :允许的最大集电极电流(瞬时值);
极间反向击穿电压 U(BR)CEO :基极开路时(即晶体管截止状态时)集电极与发射极间的反向电压最大值
这里针对某些参数做出展开:
电流放大系数:
(1) 共发射极直流电流放大系数 βˉ
βˉ=IBIC−ICEO≈IBICvCE=const
(2) 共发射极交流电流放大系数 β
β=ΔIBΔICvCE=const
(3) 共基极直流电流放大系数 αˉ
αˉ=IEIC−ICBO≈IEIC
(4) 共基极交流电流放大系数 α
α=ΔIEΔICvCB=const
当 ICBO 和 ICEO 很小时,αˉ≈α,βˉ≈β,可以不加区分。
极间反向电流 (NPN为例):
(1) 集电极基极间反向饱和电流 ICBO :发射极开路时,集电结的反向饱和电流。
(2) 集电极发射极间的反向饱和电流 ICEO
ICEO=(1+βˉ)ICBO
即输出特性曲线 IB=0 那条曲线所对应的 Y 坐标的数值。ICEO 也称为集电极发射极间穿透电流。
极限参数:
(1) 集电极最大允许电流 ICM :晶体管正常工作时集电极电流的最大值。
(2) 集电极最大允许功率损耗 PCM
PCM=ICVCE
(3) 反向击穿电压
- V(BR)CBO —— 发射极开路时的集电结反向击穿电压。
- V(BR)EBO —— 集电极开路时发射结的反向击穿电压。
- V(BR)CEO —— 基极开路时集电极和发射极间的击穿电压。
Part 3 场效应管
更新日志
2025/11/16 07:18
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